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科晶小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀型號:GSL-1700X-SPC-2GSL-1700X-SPC-2是一款小型臺式程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀
更新時間:2024-01-18
科晶小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀
型號:GSL-1700X-SPC-2
產(chǎn)品概述:
GSL-1700X-SPC-2是一款小型臺式程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀,可以設定程序,精確控制溫度200oC~1500oC(或者1200oC~1700oC),樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
結構&特點:
真空腔體為直徑6英寸的石英腔體,便于清潔和放入樣品
安裝有一個2英寸的樣品臺,并且樣品臺可以旋轉,使所制薄膜更加均勻
采用鎢絲籃作為發(fā)熱源,高溫度可達到1500℃,并且配用氧化鋁舟,可裝入樣品
精確控溫:可設置30段升降溫程序,控溫精度為+/-1℃
氣體流量端口和閥門內(nèi)置用于腔室凈化和CVD可能性
基本參數(shù):
溫度:高1500℃(1200℃以上<1h)
建議升溫速率:≤20℃/ min(需根據(jù)工藝調整)
熱偶:B型或者S型熱偶
電源:AC220V,50Hz
大:6KW
溫控及加熱源:
采用鎢絲籃作為發(fā)熱源,并且配有的氧化鋁坩堝,熱電偶安裝在坩堝底部,以便于溫度測量和控制
采用S型熱電偶(工作溫度為200℃-1500℃)
可選B型熱電偶(工作溫度為1200℃-1700℃)
安裝有一個數(shù)顯的溫度控制器:可設置30段升降溫程序,控溫精度為+/- 1oC(如圖2)
溫度控制器的時間設置以秒為單位,建議將升溫/降溫速率限制在1200oC以下0.3oC/s(20oC/ min),在1200 - 1500oC限制到0.15oC/s(10oC/min)
儀器中配有鎢絲籃及氧化鋁坩堝
樣品臺:
儀器頂部安裝有樣品臺,直徑為Φ50mm,并設置有擋板,方便控制蒸發(fā)鍍膜時間
樣品臺可旋轉,增加鍍膜均勻性
樣品臺和蒸發(fā)源之間的距離可以調節(jié)
進氣口:
進氣接口為1/4NPS,可向真空腔體中通入惰性氣體,對腔體進行清洗,也可通入反應氣體,進行反應蒸發(fā)鍍膜
進氣口安裝有一針閥,用于調節(jié)進氣流量
程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀-GSL-1700X-EV4
儀器中配有鎢絲籃及氧化鋁坩堝,并用戶可額外選購鎢絲籃及氧化鋁坩堝
真空計(可選):可選購一數(shù)顯防腐真空計,測量范圍為:3.8x10-5-1125Torr
膜厚檢測儀(可選):
可在本公司選購精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在濺射儀上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?
LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數(shù)據(jù)
同時可選購反射光譜薄膜測厚儀--TFMS-LD
真空系統(tǒng):
設備上有一KF25接口用于連接真空泵
采用渦旋分子泵真空可達1.0E-5Torr,極限真空度可達4.0E-6Torr
雙極旋片真空泵或干泵,可使儀器真空腔體的真空度達到10-2Torr
真空度達到10-2torr時,可蒸發(fā)一些貴金屬,參考材料金和鉑,也可蒸發(fā)一些有機材料,可選購數(shù)顯防腐真空計PCG-554(測量范圍3.8x10-5 to 1125 Torr.)
高真空度可達1.0E-5Torr(采用渦旋分子泵),此時可蒸發(fā)對氧敏感的材料,參考材料Al. Mg, Li,分子泵上帶有復合真空計
(高可測量真空度為1.0E-7Torr)
可在本公司選購各種真空泵和真空計
可選購一個冷真空阱,以避免真空泵造成污染
外形尺寸:490mm*330mm*560mm
質量認證:所有電器元件(>24V)都通過UL/MET/CSA/CE認證,若客戶出認證費用,本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證。
使用提示:
為了獲得高真空度,可采用以下做法
(1)使用前要檢查密封圈和法蘭上是否有異物或劃痕,并用酒精擦洗
(2)抽真空時,用外部加熱裝置將腔體烘烤到200℃,氧化鋁坩堝預加熱到500℃,保持2小時
此款蒸鍍儀可以放入到手套箱里操作,用于蒸鍍一些在常溫下對氧氣敏感的材料,比如金屬Li等,可在本公司選購開啟式手套箱VGB-6
科晶小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀
型號:GSL-1700X-SPC-2
使用注意事項:
使用溫度高于1300℃時,保溫時間不可大于1小時,否則會損壞密封圈
當腔體的各閥門關閉時,請勿開啟升溫程序或手動調節(jié)電流進行加熱
當儀器正在蒸發(fā)材料時,不可打開泄氣閥或關閉真空泵,只有當加熱溫度降至100℃時,才可放氣或關閉真空泵
蒸鍍電流不宜大于40A
如誤將控溫儀表設為手動狀態(tài),程序將不能正常運行
此設備儀表程序為秒,200℃之前升溫速度不宜大于0.5℃/S
如果用戶選購了STC-2型薄膜測厚儀,在選用取樣片時請按:鍍純金屬時用金取樣片,鍍合金時用銀取樣片
鎢絲籃必須在真空狀態(tài)下(<5Pa才能通電加熱,否則會被氧化)